雙面同時曝光設備
BEX-250DR雙面同時曝光設備
Roll to Roll
Duble side Exposure System
 
設備
 
卷式 平行光雙面曝光機
 
全自動雙面同時曝光 雙面同時曝光, 大幅提高生產效率
  自動材料清潔機構, 有效降低生產不良
 
高解析度
 
平行光曝光, 實現 高解析度曝光
 
高速
 
新開發的高速對位機構, 有效縮短真空密貼時的 Cycle time
 
高精度
 
搭配 CCD鏡頭與高精度對位機構,對位精度達 +/-5um
 
作業便利
 
光罩獨立機構, 容易交換, 好操作