無光罩式曝光設備(直接成像)
MX-1000無光罩式曝光設備(直接成像)
Sheet type
Maskless exposure system
無光罩式曝光設備
 
MX-1000 系列無光罩式曝光機採用直接成像曝光系統, 適用於研發、試作和小批量生產。
 
MX-1000 系列適用於高階PCB, 高密度封裝, 平面顯示器和 MEMS等細微加工領域。
 
直接成像曝光不需要光罩, 可以減少開發成本和加快製品上市時間。
 
MX-1000 系列可根據您的需求客製化。
  (基板尺寸、最小線寬、激光波長、tact time等...)