
BEX-250DR雙面同時曝光設備
Roll to Roll
Duble side Exposure System
設備 |
卷式 平行光雙面曝光機 |
全自動雙面同時曝光 | 雙面同時曝光, 大幅提高生產效率 |
自動材料清潔機構, 有效降低生產不良 |
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高解析度 |
平行光曝光, 實現 高解析度曝光 |
高速 |
新開發的高速對位機構, 有效縮短真空密貼時的 Cycle time |
高精度 |
搭配 CCD鏡頭與高精度對位機構,對位精度達 +/-5um |
作業便利 |
光罩獨立機構, 容易交換, 好操作 |