自動曝光設備
RA-6141B自動曝光設備
Roll to Roll
Automatic exposure system
卷式 雙面曝光設備
 
適合量產、對應Film的捲對捲(Roll to Roll)曝光裝置。
 
垂直曝光降低基材的張力。
 
基材可雙面曝光。
 
採用獨特的鏡面・鏡片光學系統、實現全面均勻平行光源。
 
以光罩與基材的自動對位、可對應多層曝光。
 
可對應光罩冷卻。(選配)
 
應用觸控面板、FPC、OLED照明、太陽能電池等 量產。