
BEX-250R-W雙列近接式平行光曝光機
Roll to Roll
2 Lines Proximity Exposure System
設備 |
卷式 雙列近接式平行光曝光機 |
高速 |
高速對位機構+近接式曝光, 大幅提高生產效率 |
低成本 |
只需使用單一光源 |
高解析度 |
平行光光源, 實現高解析度曝光 |
高精度 | 透過高精度伺服馬達, 可以任意設定光罩與製品之間的間距 |
搭配CCD鏡頭進行高速畫像處理,實現高精度對位 +/-5um |
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作業便利 |
獨特的構造, 使底片易於交換 |